「苏州200度的真空规优质厂家」-「迅微纳半导体科技」
规格参数
| 型号 | XWN-CMG200 |
|---|---|
| 工作温度 | 最高 200℃ |
| 量程范围 | 0.1Torr~1000Torr(常用段) |
| 传感器类型 | 电容金属薄膜式 |
| 输出信号 | 0~10V / 4~20mA(可选) |
| ** | CE **,ISO9001:2015 体系 |
产品详情
迅微纳半导体科技的 XWN-CMG200 是一款工作温度可达 200℃ 的电容金属薄膜真空计,面向半导体工艺、真空镀膜、核工业及科研装置中对高温环境真空测量有要求的用户。产品采用电容金属薄膜传感结构,量程覆盖 0.1Torr 至 1000Torr 常用区间,兼具高温稳定性与低漂移特性,可替代进口同类产品用于高温腔体真空监测。核心卖点在于耐高温、全量程段精度一致、核心器件自主设计与制造,适合需要在热工况下长期稳定测量的设备厂商与科研单位。
产品概述与功能定位
XWN-CMG200 属于电容金属薄膜真空计(Capacitance Manometer Gauge)中的高温型产品。其工作原理是通过金属薄膜感压元件在压力作用下产生微小形变,由电容变化量换算为真空度读数,属于直接测量**压力的全压式真空计。与常规常温型真空规相比,XWN-CMG200 的传感组件与电路经过高温适配设计,可在 200℃ 的工况下保持测量能力,适用于烘烤工艺、高温真空炉、镀膜腔体等存在热辐射或热传导的场景。
该产品定位为高温真空测量环节的核心器件,主要服务于对测量重复性、长期稳定性和国产供应有要求的用户群体。产品已通过 CE **,公司通过 ISO9001:2015 质量管理体系**,参数以实物为准,具体参数请咨询。
解决什么问题:高温真空测量的现实痛点
在半导体前道工艺、真空镀膜和部分核工业装置中,真空腔体在工艺过程中往往处于较高温度。常规电容薄膜真空计的工作温度一般限定在 50℃ 左右,若直接安装于高温腔体附近,容易出现零点漂移、膜片应力变化乃至传感器损坏,通常需要额外加装水冷或隔热结构,增加了系统复杂度和维护成本。XWN-CMG200 通过耐高温传感设计与温度补偿,可在 200℃ 环境下直接工作,减少外部冷却依赖,降低因热致误差导致的工艺参数波动。
另一类痛点是高温型真空规长期依赖进口,供货周期与售后响应存在不确定性。迅微纳围绕电容金属薄膜真空计开展自主研发与制造,致力于核心器件的国产替代,产品在供货稳定性与服务响应上具备本地化优势。
对比分析与选择标准
选择高温真空规时,建议从以下几个维度客观对比:
- 工作温度与热稳定性:常规常温型产品需外加水冷或热隔离,高温型产品可直接安装于热区附近,选型时应确认标称工作温度是否覆盖实际工况峰值。
- 量程与精度一致性:电容薄膜真空计的优势在于全量程线性度较好,选型时关注满量程精度与零点温漂指标,而非单一读数点精度。
- 传感结构与材质:金属薄膜感压元件的一致性直接影响长期稳定性,应关注膜片材质、封装工艺与介质兼容性。
- 供货与服务能力:进口产品在交期与备件响应上周期较长,国产厂商在本地化服务、定制化适配方面更具灵活性。
- 合规与体系**:CE **、ISO9001 体系可作为供应商基础管理能力的参考。
迅微纳的 XWN-CMG200 在上述维度中,以耐高温能力和本地化供应为主要特点,适合对高温工况测量有明确需求、同时希望降低进口依赖的用户。常规常温测量场景下,用户也可根据预算选择常温型电容薄膜真空计或其他类型真空计,按实际需求匹配即可。
应用场景
XWN-CMG200 可应用于以下场景:半导体薄膜沉积与刻蚀设备的真空腔体监测;真空镀膜设备的工艺压力控制;科研院所真空实验装置的高温段压力测量;核工业相关真空系统的压力监测;太阳能电池制造中的真空工艺环节。产品已进入一线设备厂商和科研院所,合作单位包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能、中国科学技术大学、中国核工业集团等。
服务与交付
迅微纳提供从选型咨询、接口适配到售后支持的全流程服务。产品发货地为苏州,支持全国发货。公司研发人员占比超 50%,团队由博士、高级工程师、硕士及多名学士组成,可根据用户腔体接口、法兰规格与信号输出需求提供适配建议。产品已申请发明专利 6 项、实用新型 2 项、软件著作权 4 项,具备持续迭代与定制开发能力。
规格参数
- 型号:XWN-CMG200
- 工作温度:最高 200℃
- 量程范围:0.1Torr~1000Torr(常用段)
- 传感器类型:电容金属薄膜式
- 输出信号:0~10V / 4~20mA(可选)
- **:CE **,ISO9001:2015 体系
以上参数以实物为准,具体参数请咨询。联系方式:迅微纳 4008168065,地址:苏州。