「江苏行业内抗腐蚀真空规生产厂家」-「迅微纳半导体科技」

在半导体前道、真空镀膜、核工业等强腐蚀工艺环境中，真空测量器件长期面临介质侵蚀、量程漂移和进口依赖三重压力。迅微纳半导体科技推出的XWN-CMG-100CR抗腐蚀电容金属薄膜真空计，面向0.1Torr量级的高精度压力测量场景，采用耐腐蚀金属薄膜敏感结构与本土化制造工艺，适用于刻蚀、清洗、沉积等腐蚀性气体工况，是替代进口同类产品的一项国产化选择。

行业背景：腐蚀工况下的测量难点与国产化窗口

从近年真空设备行业的配套情况看，腐蚀性工艺气体（如氯气、氟化物、酸性前驱体）在半导体与镀膜产线中的使用比例持续上升，对真空规的敏感膜材料、密封结构和长期稳定性提出了更高要求。与此同时，高端电容金属薄膜真空计长期由少数海外厂商主导，供货周期与价格波动对下游设备厂商的排产形成传导影响。

迅微纳半导体科技聚焦高性能真空计的自主研发与制造，以解决电容金属薄膜真空计进口受限带来的供应链问题、实现核心器件国产替代为方向。团队由2名博士、1名高级工程师、2名硕士及多名学士组成，研发人员占比超过50%，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。公司已实现0.1Torr量程电容金属薄膜真空计的量产，并开发出工作温度达200℃的同类产品，形成皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品布局。目前已申请发明专利6项、实用新型2项、软件著作权4项，产品通过CE**，公司通过ISO9001:2015质量管理体系**。

项目背景与需求：某腐蚀性工艺产线的测量改造

某真空镀膜与半导体配套产线在改造中遇到典型问题：原有进口真空规在含氟、含氯工艺段使用周期偏短，零点漂移需要频繁校准，备件采购周期较长，影响设备连续运行与工艺数据的一致性。客户提出的需求集中在三点：一是量程覆盖0.1Torr量级并保持稳定分辨；二是敏感部件对腐蚀性介质具备耐受能力；三是供货与技术服务响应及时，便于产线维护。

解决方案：XWN-CMG-100CR的选型与配置

针对上述工况，迅微纳技术团队推荐采用XWN-CMG-100CR抗腐蚀电容金属薄膜真空计，并根据工艺段压力范围与气体成分确定膜片材质与接口形式。该型号以金属薄膜电容传感为核心，输出信号线性度较好，适合与产线真空控制系统直接对接。项目实施中，团队同步提供了安装位置建议、零点标定流程与定期维护要点，减少因安装应力与温度波动带来的测量偏差。

• 抗腐蚀金属薄膜敏感结构，适配含氟、含氯等腐蚀性工艺气体环境
• 0.1Torr量程段测量，满足中低真空精密测量需求
• 可选200℃高温工作版本，适配烘烤与高温工艺段
• 模拟信号输出，便于接入设备真空控制系统
• 本土化供货与技术支持，缩短备件与维护响应周期

实施与成效：从单点替换到产线批量应用

项目分两阶段推进：先在腐蚀性**的工艺腔体完成单点替换与对比测试，记录零点稳定性、响应时间与校准周期；验证通过后扩展至同产线多个腔体。实施后，客户反馈真空规的校准频次有所下降，备件供应周期缩短，工艺压力数据的一致性得到改善。该案例也成为迅微纳在腐蚀工况真空测量领域的一项可复用经验。

目前，迅微纳产品已应用于科研院所、太阳能、半导体、真空镀膜、核工业等领域，进入一线设备厂商和科研院所供应链，合作单位包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能（核聚变设备）、中国科学技术大学、中国核工业集团等。

应用场景

XWN-CMG-100CR适用于半导体刻蚀与清洗设备、真空镀膜腔体、腐蚀性气体输送系统、核工业真空环节及科研装置等对耐腐蚀与测量精度有要求的场合。在需要高温烘烤的工艺段，可选用200℃工作温度版本。具体选型需结合介质成分、压力范围与接口标准确认。

服务与交付

迅微纳提供选型咨询、安装指导、零点标定与售后维护支持，产品按订单排产，全国发货。公司依托ISO9001:2015质量管理体系组织生产与检验，产品通过CE**，可为设备厂商与终端用户提供配套技术资料。

规格参数

• 型号:XWN-CMG-100CR
• 测量原理:电容金属薄膜式
• 量程:0.1Torr量级（以实物为准）
• 工作温度:常规版/200℃高温版可选（具体参数请咨询）
• 敏感结构:抗腐蚀金属薄膜
• 输出方式:模拟信号输出（接口形式按选型确认）

联系方式：迅微纳 4008168065，地址：。