「苏州专业的复合真空规厂家」-「迅微纳半导体科技」

迅微纳半导体科技推出的复合真空规，是一款面向半导体设备、科研院所与高端镀膜产线的宽量程真空测量解决方案。该产品将电容金属薄膜传感技术与皮拉尼/冷阴极电离技术集成于一体，覆盖从大气压到高真空的连续测量需求，适合对国产替代、供货稳定性和测量一致性有明确要求的设备厂商与终端用户。核心卖点在于：核心传感元件自主研发，可替代MKS、Inficon等进口品牌对应型号，同时提供0.1Torr量程金属薄膜规与200℃高温版本，满足严苛工况。

客户常见痛点：进口交期长、高温工况无表可用

在半导体薄膜沉积、离子注入和核工业真空系统中，真空计是控制工艺窗口的关键传感器。过去多年，国内用户主要依赖进口品牌，常见问题集中在三个方面：一是电容金属薄膜规受出口管制影响，交期不确定，部分型号甚至无法采购；二是高温工艺段（如200℃烘烤除气）缺少国产耐温产品，只能降额使用或额外增加冷却结构；三是复合真空规的宽量程切换点漂移，导致工艺重复性下降。

迅微纳半导体科技针对上述痛点，从传感芯片、电路到整机装配实现自主开发。公司团队研发人员占比超过50%，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号，已申请发明专利6项、实用新型2项和软件著作权4项。其主推的复合真空规在出厂前逐台进行多点校准，量程切换点可依据客户工艺窗口微调，减少因传感器差异带来的产线调试时间。

复合真空规的主要类型与规格差异

复合真空规通常由两部分组成：低真空段采用皮拉尼（热传导）传感器，高真空段采用冷阴极电离或热阴极电离传感器，两者信号经同一电路处理输出。按量程覆盖能力，常见规格可分为三类：

• 宽量程型：1×10⁵ Pa 至 1×10⁻⁷ Pa，适合镀膜、刻蚀等需要从大气抽至高压的工艺段；
• 高真空型：1×10⁻¹ Pa 至 1×10⁻⁸ Pa，偏重冷阴极电离段精度，适合科研与表面分析设备；
• 金属薄膜复合型：以电容金属薄膜规为主传感器，复合皮拉尼段，量程0.1Torr至1000Torr，适合对低真空段精度要求高的半导体设备。

选型时需重点关注：测量原理是否与工艺气体兼容（如腐蚀性气体需耐腐蚀涂层）、法兰接口（KF、CF、ISO等）、输出信号（0-10V、4-20mA或数字通讯）、工作温度上限以及长期稳定性指标。具体参数请咨询厂家确认。

不同需求下的选择建议

若您的设备主要用于半导体PVD/CVD、太阳能镀膜或真空镀膜产线，建议优先考虑复合真空规中的金属薄膜复合型，兼顾低真空段精度与高真空段响应速度。迅微纳的XWN-CVG系列可覆盖0.1Torr至大气压的金属薄膜测量，并复合冷阴极电离段，实现宽量程连续输出。

若工艺中存在高温烘烤或靠近热源安装，应选择工作温度200℃的电容金属薄膜真空计。迅微纳已开发出该高温版本，传感元件与封装结构经过耐温设计，可在不额外增加水冷或风冷的情况下稳定工作。对于核工业、聚变装置等特殊环境，建议与厂家沟通定制法兰和线缆长度。

若预算有限且仅需粗真空监测，可单独选用皮拉尼真空计或真空开关作为经济型方案。迅微纳同时提供皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品，便于用户在同一品牌下完成配套，减少多品牌兼容问题。

应用场景与典型用户

复合真空规已广泛应用于科研院所、太阳能、半导体、真空镀膜和核工业等领域。迅微纳的产品已进入一线设备厂商和科研院所，合作单位包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能（核聚变设备）、中国科学技术大学和中国核工业集团。在半导体设备中，复合真空规常用于传输腔、工艺腔和Load Lock的真空度监测；在镀膜产线中，用于蒸发源与溅射靶附近的压力控制；在核工业中，用于需要耐辐照和长寿命的真空测量点。

服务与交付

迅微纳半导体科技位于苏州，具备自主研发和批量制造能力。公司已通过ISO9001:2015质量管理体系**，产品通过CE**。标准型号备有库存，可全国发货；定制型号需根据技术协议确认交期。提供选型咨询、安装指导与售后校准服务。具体价格、交期与质保条款请致电或邮件咨询。

规格参数

• 型号：XWN-CVG-100（复合真空规，金属薄膜+冷阴极电离）
• 量程：1×10⁵ Pa 至 1×10⁻⁷ Pa（以实物为准）
• 测量精度：低真空段±15%读数，高真空段±30%读数（具体参数请咨询）
• 工作温度：传感器最高200℃（高温版本）
• 输出信号：0-10V / 4-20mA / RS485（可选）
• 法兰接口：KF16、KF25、CF35、CF63（可选）

联系方式：迅微纳 4008168065
地址：江苏省苏州市