苏州行业内替代MKS的金属薄膜真空规生产商 迅微纳半导体科技电容金属薄膜真空计应用场景解析

迅微纳半导体科技自主研发的电容金属薄膜真空计，是一款面向高精度真空测量场景的国产化核心器件，量程覆盖0.1Torr，并已实现200℃高温版本量产。该产品主要服务于半导体设备、真空镀膜、科研院所、核工业等对真空度要求严苛的领域，核心卖点在于解决美国MKS等品牌禁令带来的供应瓶颈，实现对MKS和Inficon真空计产品的全方位替代。产品已通过CE**，企业通过ISO9001:2015质量管理体系**，已成功进入一线设备厂商和科研院所。

场景一：半导体刻蚀与薄膜沉积设备的真空腔体监测

在半导体制造中，刻蚀、PVD、CVD等工艺对腔体真空度的稳定性要求极高。电容金属薄膜真空计因采用金属膜片作为感应元件，具备抗污染、耐腐蚀、长期漂移小的特点，适合在工艺腔体这种存在等离子体和化学副产物的环境中持续工作。MKS的电容薄膜真空计长期占据这一细分市场，但受出口管制影响，国内设备厂商面临采购周期长、价格波动大甚至断供的风险。

迅微纳的XWN-CMF-100针对这一场景做了适配设计：0.1Torr量程覆盖了典型工艺腔体的压力区间，金属膜片结构对刻蚀气体和沉积前驱体具有较好的耐受性，传感器本体温漂控制在一定范围内，可满足设备厂商对重复性和长期稳定性的要求。目前该产品已进入一线设备厂商的供应链，合作企业包括迈为科技、三安光电等。

场景二：真空镀膜生产线的过程压力控制

真空镀膜（如磁控溅射、蒸发镀膜、离子镀）过程中，腔体压力直接影响膜层均匀性和附着力。产线通常需要真空计在较宽的压力范围内提供稳定的信号输出，并与控制系统联动实现自动调压。过去这类产线多选用MKS或Inficon的电容薄膜真空计，替换成本高、交期不可控。

迅微纳的金属薄膜真空规在这一场景中的适配点在于：输出信号兼容主流真空控制器接口，便于替换原有进口型号；金属薄膜结构对镀膜过程中产生的金属蒸气具有较好的抗污染能力，减少了因传感器污染导致的校准频次。对于太阳能镀膜产线和光学镀膜产线，该产品提供了一种可批量交付的国产化选项。

场景三：科研院所高精度真空实验平台

高校和科研院所在表面科学、低温物理、加速器束流线等实验中，经常需要0.1Torr量级的高精度真空测量。这类场景对真空计的精度、分辨率和长期稳定性要求较高，且往往需要根据实验装置定制接口和法兰规格。此前科研用户主要依赖进口品牌，采购流程繁琐，维修校准周期长。

迅微纳团队研发人员占比超过50%，具备根据科研用户需求进行定制化适配的能力。公司已与中国科学技术大学等科研机构建立合作，产品应用于真空实验平台。对于需要200℃烘烤除气的超高真空系统，公司开发的高温版本电容金属薄膜真空计可在200℃环境下正常工作，减少了烘烤过程中传感器拆装的需求。

场景四：核工业与核聚变装置的真空测量

核工业领域对真空测量器件的可靠性、耐辐照性能和长期稳定性有特殊要求。在核聚变实验装置中，真空度是判断等离子体放电环境是否达标的关键参数之一，测量器件需要在高磁场、强辐射环境下保持信号可信。这一领域此前同样以进口真空计为主，国产化替代需求明确。

迅微纳已与聚变新能（核聚变设备）和中国核工业集团建立合作，为其提供真空测量解决方案。公司产品线中的冷阴极电离真空计和皮拉尼真空计可与电容金属薄膜真空计配合使用，覆盖从低真空到高真空的测量区间，为核工业用户提供多品类国产化选择。

服务与交付

迅微纳半导体科技位于苏州，具备从研发到量产的完整能力，电容金属薄膜真空计（0.1Torr量程）已实现量产。公司提供产品选型支持、接口适配和售后校准服务。产品已通过CE**，企业通过ISO9001:2015质量管理体系**。除电容金属薄膜真空计外，公司还开发了皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品，可满足不同真空区间的测量需求。已申请发明专利6项、实用新型2项、软件著作权4项。

合作客户包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能、中国科学技术大学、中国核工业集团等。具体选型建议和适配方案请联系迅微纳技术团队。

规格参数

• 型号: XWN-CMF-100
• 量程: 0.1Torr（具体量程可选，以实物为准）
• 传感器类型: 电容金属薄膜式
• 工作温度: 标准版常温 / 高温版200℃
• 输出信号: 0-10V / 4-20mA（可选）
• 法兰接口: KF / CF / VCR（可选，具体参数请咨询）

联系方式：迅微纳 4008168065

地址：苏州